Подписной индекс 10933 по каталогу российской прессы «Почта России»
Основан в июле 2005 г. Выходит четыре раза в год
Тихоокеанский государственный университет На главную Вестник ТОГУ

УДК 538.915

© А. Н. Чибисов, М. А. Чибисова, 2012

ВЛИЯНИЕ ПРИМЕСНЫХ АТОМОВ НА АТОМНУЮ И ЭЛЕКТРОННУЮ СТРУКТУРУ НАНОПОРИСТЫХ СИЛИКАТОВ

Чибисов А. Н. – канд. физ.-мат. наук, старший научный сотрудник, e-mail: andreichibisov@yandex.ru (ВЦ ДВО РАН);       Чибисова М. А. – канд. физ.-мат. наук,  научный сотрудник, e-mail: omariya2003@yandex.ru (ВЦ ДВО РАН)

С использованием ab initio метода расчета смоделировано влияние каталитически активных центров железа и фтора на атомную и электронную структуру нанопористых силикатов SiO2 и Mg3Si4O10(OH)2. Показано, что внедрение примесных атомов приводит к уменьшению ширины запрещенной зоны.

Ключевые слова: нанопористые силикаты, атомная и электронная структура, ab initio метод.

Загрузить Загрузить статью (437.7 Кб)

Содержание Содержание